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L4811-II-2/RZQ双工位立式真空烧结炉是为满足半导体器件和磁性材料行业的大批量、高生产率的要求而设计的一种较先进的烧结设备，主要用于管芯和管座的烧结，也可以做扩散、退火设备用。

主要技术指标：

1工作温度：800℃～1200℃

2单点温度控制精度：±2℃/24h

3恒温区长度：400mm

4最高升温功率：22KW

5升温时间：≤50分钟（室温升至1000℃)

6真空电炉加热功率：1KW

7设备总功率：28KW

8真空室尺寸：φ350mm，高600mm

9真空度：3 x 10-3Pa

10抽真空时间：<1h（注：初始开机时间），连续工作<20min

11主机尺寸：2050 x 1050 x 2700mm（长x宽x高）

12电控箱尺寸：750 x 850 x 1800（mm）

13供电电源：三相380V

14主机重量：2000Kg高温烧结实验炉、高温压力烧结炉、高温网带烧结炉、真空烧结炉、碳化硅烧结炉、1100°C生物裂解高温烧结炉、1000°C大型高温烧结炉、高温炭化炉、1200°C退火炉、高温烧结炉、真空烧结炉、真空热压炉、真空工业炉、真空钼丝炉、真空热压烧结炉、真空碳管炉、双室真空快淬烧结炉、粉末冶金烧结炉、小型真空熔炼炉、真空热处理烧结炉、真空气氛烧结炉、工业电炉、退火炉、箱式炉、管式炉、石英管烧结炉、多用炉热处理设备、